Chinese Physics Letters. 2005;22(9):2332-2334. doi: 10.1088/0256-307X/22/9/053 Q14.22025

Deposition of Hydrogen-Free Silicon Nitride Thin Films by Microwave ECR plasma Enhanced Magnetron Sputtering at Room Temperature

室温下采用微波ECR等离子体增强磁控溅射法沉积无氢氮化硅薄膜

Wan-Yu, Ding; Jun, Xu; Yong, Piao; Yan-Qin, Li; Peng, Gao; Xin-Lu, Deng; Chuang, Dong

DOI: 10.1088/0256-307X/22/9/053

期刊名：Chinese physics letters

缩写：CHINESE PHYS LETT

ISSN：0256-307X

e-ISSN：1741-3540

IF/分区：4.2/Q1

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