Chinese Physics Letters. 2004;21(6):1168-1170. doi: 10.1088/0256-307X/21/6/053 Q14.22025
Fast Growth of Polycrystalline Film in SiCl 4 /H 2 Plasma
DOI: 10.1088/0256-307X/21/6/053
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Chinese Physics Letters. 2004;21(6):1168-1170. doi: 10.1088/0256-307X/21/6/053 Q14.22025
DOI: 10.1088/0256-307X/21/6/053
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